本(ben)技術無需氫源，專門為無氫或(huo)允(yun)許(xu)微(wei)量氫氣的生(sheng)產工藝(yi)而設計的氣體淨化設備。本(ben)技術適用於氮氣、二氧化碳、惰性氣體（氬、氦、氪、氙、氖氣等）等氣體除氧，以獲取(qu)高純氣體。
高可靠性 高穩定性
擁有自主(zhu)的先進(jin)技術，采用先進(jin)的節能工藝(yi)流程，配合使用自製的除氧催化劑，設備運(yun)氣更穩定，可靠，使用時間更長。裝置運(yun)行穩定性好，可靠性高，常溫常壓下工作，性能好，正常使用、維護下13X分子篩使用時間可達10年以上。
先進(jin)的程控閥門技術
獨(du)特的程控閥門，結構緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關次數(shu)高達100萬次無故障。
占地麵積小 無氫設計
裝置工藝(yi)流程簡單、結構緊湊、占地麵積小、減少空間需求(qiu)。本(ben)裝置適用於專門為無氫氣或(huo)不要使用氫氣而設計的氣體純化設備，且對(dui)碳無要求(qiu)。
自動化控製 維護簡單
裝置自動化程度高，觸摸屏控製開停機方便快捷(jie)，啟動時間短，可遠程控製設備啟停。吸附器結構設計獨(du)特，氣流的分布相當(dang)均(jun)勻，接觸時間長，13X分子篩在(zai)很大程度上得到利用，可以在(zai)不停機下更換脫水幹燥劑或(huo)進(jin)行大檢修。
可編程序控製器自動化控製
氮氣純度、流量在(zai)線監測
冷幹機、過濾器自動排汙(wu)；
設備維修或(huo)外(wai)界(jie)事故（停電等）時，備用氮氣自動補充切換
人機界(jie)麵控製係統
冷卻水故障報(bao)警自動開停機
額定處理量：20-1000Nm3/h
工作溫度：350℃
CO2含量：≤1000ppm（其他CO2含量請谘詢）
原料氣氧含量：≤1000ppm
脫氧深度：≤1ppm
常壓露點：≤-60℃（其他露點請谘詢）
在(zai)加熱條件下，氣體中的氧直(zhi)接與碳脫氧劑發生(sheng)氧化（燃燒）反(fan)應生(sheng)產二氧化碳，從(cong)而達到除氧的目的，再(zai)通(tong)過變(bian)壓吸附原理脫除氣體中的二氧化碳及水分。
C+O2→CO2(加熱條件下)
NCRd型氮氣純化裝置由燃燒除氧係統、吸附幹燥係統、電氣控製係統三大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、可編程序控製器、燃燒塔、幹燥塔、水冷卻器、熱換器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。
